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昆山廣盛源水務科技有限公司

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50T超純水

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  IC制造所需的超純水中,優(yōu)選關注的指標為:Particle、TOC、Si、堿金屬、堿土金屬、重金屬、DO、細菌等細菌的影響與TOC和顆粒的影響基本相同,在清洗用水中,如果含有不純物或微粒會導致柵氧化膜厚度不均,產(chǎn)生圖形發(fā)生缺陷;耐壓性變差,超純水中的有機物等不純物會使產(chǎn)品結晶不良,DO會使硅片表面的氧化膜提前完成

  50T超純水.jpg

  應用案例:晶圓廠生產(chǎn)/切割用超純水系統(tǒng)

  

  1、水質要求:

  

  a、電阻:≥18.2mΩ.cm

  

  b、TOC:<20ppb

  

  c、particle(≧0.1um):≦20pcs/ml

  

  d、particle(≧0.2um):≦10pcs/100ml

  

  e、DO:≤80ppb

  

  f、細菌總數(shù):≤1個/100mL(cfu)

  

  g、輸送壓力:4.0±0.5 kg/cm2(恒壓變頻)

  

  h、溫度;22±2℃

  

  2、工藝流程:

  

  預處理(砂+碳+軟化或者UF)→RO增壓泵浦→1μm過濾器→防垢劑加藥系統(tǒng)→一級RO系統(tǒng)→一級RO水箱→二級RO高壓泵浦→二級RO系統(tǒng)→純水箱→EDI增壓泵浦→UV滅菌器→0.2μm精密過濾器→EDI膜堆單元→氮封水箱→超純水輸送泵→終端板式換熱器→脫氧膜系統(tǒng)→TOC降解器→一級拋光樹脂→二級拋光樹脂→0.2μm終端過濾器→終端UV滅菌器→0.1μm終端過濾器→使用點


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